UHV 챔버 제작 기술

VC
 Alcatel, BOC Edwards, K.C.Tech,
 한국 Ebara 정밀기계, LOT Vacuum(납품처)
PSS
 한국표준과학연구원(납품처)
CVCM
 한국표준과학연구원(납품처)
MGB
 LG MGT (납품처)

XHV 챔버

[TDS] : 한국표준과학연구원(납품처)

극고진공(XHV) 챔버개발(NT;신기술)
극고진공 챔버를 개발하는 데는 펌프자체의 가스방출을 얼마나 줄이느냐가 관건이다. 본 기술은 펌프와 챔버 내면에 1nm 두께의 치밀한 크롬산화막을 입혀 펌프자체의 진공도를 기존보다 한단계(10E-12Torr) 높임으로써 고도의 청정도가 요구되는 가속기나 표면분석, 나노과학 등에 널리 쓰일 수 있을 것으로 기대 된다